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Eksma FEMTOLINE低級波片

簡要描述:Eksma FEMTOLINE低級波片
與多級板相比,低級板對溫度的敏感性和溫度依賴性較小。這些板適用于高功率應用。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-17
  • 訪  問  量:865

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品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE低級波片


 Eksma FEMTOLINE低級波片

與多級板相比,低級板對溫度的敏感性和溫度依賴性較小。這些板適用于高功率應用。

Ø厚度0.15-0.35

Ø比多級薄

產品型號

延遲λ/ 2

型號

波長

延遲

直徑

安裝

通光孔徑

461-4208

1030 nm

λ/2

ø 20 mm

ø 25.4 mm

ø 17 mm

461-4208D12

1030 nm

λ/2

ø 12.7 mm

Unmounted

ø 11 mm

461-4215

800 nm

λ/2

ø 20 mm

ø 25.4 mm

ø 17 mm

461-4215D12

800 nm

λ/2

ø 12.7 mm

Unmounted

ø 11 mm

461-4220

780 nm

λ/2

ø 20 mm

ø 25.4 mm

ø 17 mm

461-4220D12

780 nm

λ/2

ø 12.7 mm

Unmounted

ø 11 mm

461-4232

515 nm

λ/2

ø 20 mm

ø 25.4 mm

ø 17 mm

461-4232D12

515 nm

λ/2

ø 12.7 mm

Unmounted

ø 11 mm

461-4235

400 nm

λ/2

ø 20 mm

ø 25.4 mm

ø 17 mm

461-4241

343 nm

λ/2

ø 20 mm

ø 25.4 mm

ø 17 mm

延遲λ/ 4

型號

波長

延遲

直徑

安裝

通光孔徑

461-4408

1030 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 25.4 mm

ø 17 mm

461-4408D12

1030 nm

λ/4

ø 12.7 mm

Unmounted

ø 11 mm

461-4415

800 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 25.4 mm

ø 17 mm

461-4415D12

800 nm

λ/4

ø 12.7 mm

Unmounted

ø 11 mm

461-4420

780 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 25.4 mm

ø 17 mm

461-4432

515 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 25.4 mm

ø 17 mm

461-4432D12

515 nm

λ/4

ø 12.7 mm

Unmounted

ø 11 mm

461-4435

400 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 25.4 mm

ø 17 mm

461-4441

343 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 25.4 mm

ø 17 mm

 

材料

單晶石英

光軸

垂直于緩速器圓周上的刻面

通光孔徑

Ø17

波前畸變

λ/ 10 @ 633nm

環(huán)安裝外徑

25.4mm+ 0.0 / -0.2mm

表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

平行性

<10弧秒

增透膜

R <0.5%

激光損傷閾值

100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800nm

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

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