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Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器

簡要描述:Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器
與波片相比,旋轉(zhuǎn)器具有固有優(yōu)勢,與繞其自身光軸的旋轉(zhuǎn)無關(guān)。它不需要調(diào)整,只需垂直于入射輻射安裝即可。偏振平面旋轉(zhuǎn)器通常用于特定波長。它僅略微取決于環(huán)境溫度。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-17
  • 訪  問  量:853

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器


Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉(zhuǎn)器

旨在使用由晶體石英制成的圓形雙折射效應(yīng)將光束偏振平面嚴(yán)格旋轉(zhuǎn)到合適的角度。

產(chǎn)品介紹

Ø旨在通過圓形雙折射效應(yīng)將光束偏振平面嚴(yán)格旋轉(zhuǎn)到合適的角度

Ø由晶體石英制成

與波片相比,旋轉(zhuǎn)器具有固有優(yōu)勢,與繞其自身光軸的旋轉(zhuǎn)無關(guān)。它不需要調(diào)整,只需垂直于入射輻射安裝即可。偏振平面旋轉(zhuǎn)器通常用于特定波長。它僅略微取決于環(huán)境溫度。

產(chǎn)品型號

型號

中心波長

偏振平面的旋轉(zhuǎn)角度

AR鍍膜范圍

470-4044

400 nm

45°

380-420 nm

470-4049

400 nm

90°

380-420 nm

470-4254

257 nm

45°

250-265 nm

470-4259

257 nm

90°

250-265 nm

470-4264

266 nm

45°

257-275 nm

470-4269

266 nm

90°

257-275 nm

470-4344

343 nm

45°

333-353 nm

470-4349

343 nm

90°

333-353 nm

470-4514

515 nm

45°

500-530 nm

470-4519

515 nm

90°

500-530 nm

470-4784

780 nm

45°

740-820 nm

470-4789

780 nm

90°

740-820 nm

470-4804

800 nm

45°

760-840 nm

470-4809

800 nm

90°

760-840 nm

470-4904

1030 nm

45°

1000-1060 nm

470-4909

1030 nm

90°

1000-1060 nm

 

材料

單晶石英

光軸

垂直于旋轉(zhuǎn)器的面S1,S2

通光孔徑

Ø17mm

環(huán)安裝外徑,D

25.4mm+ 0.0 / -0.2mm

表面質(zhì)量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

波前畸變

λ/ 10 @ 633nm

平行性

<10弧秒

增透膜

R <0.5%

激光損傷閾值

100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

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