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Eksma 部分反射鍍膜

簡要描述:Eksma 部分反射鍍膜
部分反射鍍膜是耐用的多層介電鍍膜,旨在用于有效的光束分離以及激光腔中的輸出耦合。它們被設計用于大功率激光應用。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-22
  • 訪  問  量:977

詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 部分反射鍍膜


Eksma 部分反射鍍膜

部分反射鍍膜是耐用的多層介電鍍膜,旨在用于有效的光束分離以及激光腔中的輸出耦合。

產(chǎn)品描述

部分反射鍍膜是耐用的多層介電鍍膜,旨在用于有效的光束分離以及激光腔中的輸出耦合。它們被設計用于大功率激光應用。

我們提供適用于不同波長和反射值的一系列標準局部反射鍍膜。請與我們聯(lián)系以獲取其他波長,AOI或反射值。

請發(fā)送帶有鍍膜和基材代碼的定制產(chǎn)品請求,以獲取報價。對于基材,請參閱我們的標準未鍍膜激光窗口部分。

我們還提供標準的分束器和輸出耦合器,可快速交付:

ØNd:YAG LaserLine分束器(1064 nm,532 nm,355 nm,266 nm)

ØFemtoline分束器(1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm)

ØFemtoline寬帶分束器(720-880 nm,750-850 nm)

ØNd:YAG LaserLine輸出耦合器(1064 nm nm)

ØFemtoline輸出耦合器(1030 nm,800 nm)

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

鍍膜型號

波長

反射率

推薦

損傷

AOI=0

AOI=45


nm


%

基材

閾值

2012-i0

2012-i45

248

25±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2015-i0

2015-i45

248

50±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2017-i0

2017-i45

248

75±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2022-i0

2022-i45

266

25±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2025-i0

2025-i45

266

50±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2027-i0

2027-i45

266

75±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2032-i0

2032-i45

308

25±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2035-i0

2035-i45

308

50±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2037-i0

2037-i45

308

75±3

UVFS

1 J/cm2
in 10 ns

2042-i0

2042-i45

355

25±3

UVFS

2 J/cm2
in 10 ns

2045-i0

2045-i45

355

50±3

UVFS

2 J/cm2
in 10 ns

2047-i0

2047-i45

355

75±3

UVFS

2 J/cm2
in 10 ns

2052-i0

2052-i45

400

25±3

UVFS

3 J/cm2
in 10 ns

2055
-i0

2055
-i45

400

50±3

UVFS

3 J/cm2
in 10 ns

2057-i0

2057-i45

400

75±3

UVFS

3 J/cm2
in 10 ns

2062-i0

2062-i45

532

25±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2065-i0

2065-i45

532

50±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2067-i0

2067-i45

532

75±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2069-i0

2069-i45

633

25±3

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

2070-i0

2070-i45

633

50±3

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

2071-i0

2071-i45

633

75±3

UVFS, BK7

1.5 J/cm2
in 10 ns

2072-i0

2072-i45

800

25±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2075-i0

2075-i45

800

50±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2077-i0

2077-i45

800

75±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2079-i0

2079-i45

852

25±3

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

2080-i0

2080-i45

852

50±3

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

2081-i0

2081-i45

852

75±3

UVFS, BK7

1 J/cm2
in 10 ns

2082-i0

2082-i45

1064

25±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2085-i0

2085-i45

1064

50±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2087-i0

2087-i45

1064

75±3

UVFS, BK7

3 J/cm2
in 10 ns

2089-i0

2089-i45

1550

25±3

UVFS, BK7

2 J/cm2
in 10 ns

2090-i0

2090-i45

1550

50±3

UVFS, BK7

2 J/cm2
in 10 ns

2091-i0

2091-i45

1550

75±3

UVFS, BK7

2 J/cm2
in 10 ns

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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