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Eksma UVFS激光線反射鏡-2

簡要描述:Eksma UVFS激光線反射鏡-2
高反射率(> 99%反射率)激光線鏡由石英制成,并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。適用于UV,VIS和NIR激光器。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-22
  • 訪  問  量:734

產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細(xì)介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma UVFS激光線反射鏡-2


高反射率(> 99%反射率)激光線鏡由石英制成,并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。適用于UV,VIS和NIR激光器。

Eksma UVFS激光線反射鏡-2

產(chǎn)品介紹

Ø高反射鏡(反射率> 99%)

Ø設(shè)計用于45°或0°入射角

Ø由紫外線等級的熔融石英制成

Ø對于由BK7材料制成的激光線鏡,請單擊此處

激光線反射鏡是介電反射鏡,在規(guī)定的激光波長下具有優(yōu)良性能。我們的激光鏡由石英制成,并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。對于低波前畸變,低散射和高損傷閾值,鏡子亞表面的高拋光質(zhì)量也很重要。

介電紫外熔融石英激光線鏡在UV,VIS和NIR光譜中涵蓋了廣泛的激光應(yīng)用。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 

產(chǎn)品型號

UVFS; ø12.7 x 6 mm

型號

D

ET

R, %(S+P)/2

AOI

波長

應(yīng)用

041-0240T6

12.7 mm

6 mm

99.0%

45°

244-248 nm

KrF

041-0240T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.0%

244-248 nm

KrF

041-0260T6

12.7 mm

6 mm

99.0%

45°

262-266 nm

Nd:YAG 4H

041-0260T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.0%

262-266 nm

Nd:YAG 4H

041-0266T6

12.7 mm

6 mm

99.0%

45°

257-275 nm

Ti:Sa 3H

041-0266T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.0%

257-275 nm

Ti:Sa 3H

041-0300T6

12.7 mm

6 mm

99.2%

45°

308 nm

XeCl

041-0300T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.2%

308 nm

XeCl

041-0325T6

12.7 mm

6 mm

99.5%

45°

325 nm

HeCd

041-0325T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.8%

325 nm

HeCd

041-0343T6

12.7 mm

6 mm

99.5%

45°

333-353 nm

Yb:KGW/KYW 3H

041-0343T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.8%

333-353 nm

Yb:KGW/KYW 3H

041-0347T6

12.7 mm

6 mm

99.5%

45°

347 nm

Ruby

041-0347T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.8%

347 nm

Ruby

041-0350T6

12.7 mm

6 mm

99.5%

45°

351-361 nm

Nd:YAG 3H

041-0350T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.8%

351-361 nm

Nd:YAG 3H

041-0350T6HHR

12.7 mm

6 mm

99.9%

45°

351-361 nm

Nd:YAG 3H

041-0350T6HHR-i0

12.7 mm

6 mm

99.9%

351-361 nm

Nd:YAG 3H

041-0400T6

12.7 mm

6 mm

99.5%

45°

380-420 nm

Ti:Sa 2H

041-0400T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.8%

380-420 nm

Ti:Sa 2H

041-0515T6

12.7 mm

6 mm

99.5%

45°

500-530 nm

Yb:KGW/KYW 2H

041-0515T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.8%

500-530 nm

Yb:KGW/KYW 2H

041-0530T6

12.7 mm

6 mm

99.5%

45°

527-532 nm

Nd:YAG

041-0530T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.8%

527-532 nm

Nd:YAG

041-0530T6HHR

12.7 mm

6 mm

99.9%

45°

527-532 nm

Nd:YAG

041-0530T6HHR-i0

12.7 mm

6 mm

99.9%

527-532 nm

Nd:YAG

041-0800T6

12.7 mm

6 mm

99.5%

45°

760-840 nm

Ti:Sa 1H

041-0800T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.8%

760-840 nm

Ti:Sa 1H

041-0800T6HHR

12.7 mm

6 mm

99.9%

45°

760-840 nm

Ti:Sa 1H

041-0800T6HHR-i0

12.7 mm

6 mm

99.9%

760-840 nm

Ti:Sa 1H

041-1030T6

12.7 mm

6 mm

99.5%

45°

1000-1060 nm

Yb:KGW/KYW 1H

041-1030T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.8%

1000-1060 nm

Yb:KGW/KYW 1H

041-1030T6HHR

12.7 mm

6 mm

99.9%

45°

1000-1060 nm

Yb:KGW/KYW 1H

041-1030T6HHR-i0

12.7 mm

6 mm

99.9%

1000-1060 nm

Yb:KGW/KYW 1H

041-1060T6

12.7 mm

6 mm

99.5%

45°

1047-1064 nm

Nd:YAG 1H

041-1060T6-i0

12.7 mm

6 mm

99.8%

1047-1064 nm

Nd:YAG 1H

041-1060T6HHR

12.7 mm

6 mm

99.9%

45°

1047-1064 nm

Nd:YAG 1H

041-1060T6HHR-i0

12.7 mm

6 mm

99.9%

1047-1064 nm

Nd:YAG 1H

 

基材

材料

UV級熔融石英

S1表面平整度

λ/10 typical at 633 nm

S1表面質(zhì)量

20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

S2表面質(zhì)量

簡單拋光

直徑公差

+ 0.00 mm, - 0.12 mm

厚度公差

± 0.25 mm

< 3 minutes

倒角

0.3 mm at 45° typical

 

鍍膜

技術(shù)

電子束多層電介質(zhì)或離子束濺射

附著力和耐久性

符合MIL-C-675A。 不溶于實驗室溶劑

通光孔徑

超過中心直徑的85%

損壞閾值

6 J / cm2,8納秒脈沖,典型值1064 nm

鍍膜表面平整度

通光孔徑下633 nm處的λ/ 10

入射角

0°或45°

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

 

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