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Eksma 多階波片

簡要描述:Eksma 多階波片
由高品質(zhì)光學(xué)級晶體石英四分之一波和半波延遲版本制成,適用于高功率和低功率激光器應(yīng)用。延遲板出廠時已安裝,并且在兩側(cè)均具有多層介電減反射鍍膜,可較大程度地提高透射率。與零階板相比,多階板的延遲僅稍微依賴于溫度。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-24
  • 訪  問  量:1030

詳細(xì)介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 多階波片


與零階板相比,多階板的延遲僅稍微依賴于溫度。

Ø由單晶板制成

Ø拋光至1-1.5毫米厚度

Eksma 多階波片

由高品質(zhì)光學(xué)級晶體石英四分之一波和半波延遲版本制成,適用于高功率和低功率激光器應(yīng)用。延遲板出廠時已安裝,并且在兩側(cè)均具有多層介電減反射鍍膜,可較大程度地提高透射率。與零階板相比,多階板的延遲僅稍微依賴于溫度。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

Retardation λ/2

CODE

WAVELENGTH

RETARDATION

DIAMETER

CLEAR APERTURE

MOUNT

462-4201

1550 nm

λ/2

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4201D12

1550 nm

λ/2

ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4205

1064 nm

λ/2

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4205D12

1064 nm

λ/2

ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4206

1053 nm

λ/2

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4206D12

1053 nm

λ/2

ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4208

1030 nm

λ/2

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4208D12

1030 nm

λ/2

ø 12.7 mm

ø 11 mm

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462-4210

950 nm

λ/2

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4213

852 nm

λ/2

ø 20 mm

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462-4215

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462-4220

780 nm

λ/2

ø 20 mm

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462-4220D12

780 nm

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ø 12.7 mm

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462-4221

770 nm

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462-4225

633 nm

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462-4228

589 nm

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ø 20 mm

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462-4230

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462-4231

527 nm

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462-4232

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462-4232D12

515 nm

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ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4233

448 nm

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ø 20 mm

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462-4235

400 nm

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ø 20 mm

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462-4240

355 nm

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462-4240D12

355 nm

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ø 12.7 mm

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462-4241

343 nm

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462-4245

266 nm

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ø 20 mm

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462-4246

257 nm

λ/2

ø 20 mm

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Retardation λ/4

CODE

WAVELENGTH

RETARDATION

DIAMETER

CLEAR APERTURE

MOUNT

462-4401

1550 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4401D12

1550 nm

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ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4405

1064 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4405D12

1064 nm

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ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4406

1053 nm

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ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4406D12

1053 nm

λ/4

ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4408

1030 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4408D12

1030 nm

λ/4

ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4410

950 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4413

852 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4415

800 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4415D12

800 nm

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ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4420

780 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4420D12

780 nm

λ/4

ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4421

770 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4425

633 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4425D12

633 nm

λ/4

ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4428

589 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4430

532 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4430D12

532 nm

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ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4431

527 nm

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ø 20 mm

ø 17 mm

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462-4432

515 nm

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ø 20 mm

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515 nm

λ/4

ø 12.7 mm

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Unmounted

462-4433

448 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4435

400 nm

λ/4

ø 20 mm

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462-4440

355 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

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355 nm

λ/4

ø 12.7 mm

ø 11 mm

Unmounted

462-4441

343 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4445

266 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

462-4446

257 nm

λ/4

ø 20 mm

ø 17 mm

ø 25.4 mm

 

材料

單晶石英

光軸

垂直于減速器圓周上的刻面

波前畸變

λ/10 @ 633 nm

平行性

< 10 arcsec

增透膜

R < 0.4%

激光損傷閾值

10 J/cm2, 10 nsec, 1064 nm typical

 

 

Ø20 mm Waveplate波片

Ø17 mm Waveplate波片

通光孔徑

Ø17 mm

Ø11 mm

安裝

Ø25.4 mm +0.0/ -0.2 mm

Unmounted

波片標(biāo)稱厚度

1÷1.5 mm

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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