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硅光子和PIC測試

簡要描述:硅光子和PIC測試
LUNA提供基于光頻域反射技術(shù)(OFDR)的獨(dú)/特測試系統(tǒng),和為現(xiàn)代硅光子 集成器件提供準(zhǔn)確和快速的測試方案。

  • 產(chǎn)品品牌:其他品牌
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2022-12-07
  • 訪  問  量:1158

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
組件類別其他應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

硅光子和PIC測試


硅光子和光子集成最/全面、最快速的測試方案

LUNA提供基于光頻域反射技術(shù)(OFDR)的獨(dú)/特測試系統(tǒng),和為現(xiàn)代硅光子 集成器件提供準(zhǔn)確和快速的測試方案。

10μm空間分辨率的器件光路損耗測試

Luna的超高空間分辨率背光反射計(jì),具備背向散射級(jí)的探測靈敏度,為光無源 器件提供前/所未有的分布式損耗分析。

一臺(tái)設(shè)備即可測試器件的全部光學(xué)參數(shù)

Luna光矢量分析儀(OVA)能夠通過對(duì)光無源器件的一次掃描測量,即可完成 對(duì)線性傳輸矩陣 (瓊斯矩陣)、插入損耗 (IL)、群延時(shí) (GD)、色散 (CD)、偏振模 色散 (PMD)、偏振相關(guān)損耗 (PDL) 等關(guān)鍵光學(xué)參數(shù)的測量。

全新6415光器件分析儀

Luna全新的6415是一款同時(shí)具備高測量頻率和高空間分辨率的背光反射計(jì)產(chǎn) 品,同時(shí)可提供插入損耗(IL)的透射測試和分析模式,是產(chǎn)線檢測和品質(zhì)控 制的理想選擇。

應(yīng)用

?生產(chǎn)測試

?質(zhì)量控制

?生產(chǎn)問題診斷

?設(shè)計(jì)表征與分析

?驗(yàn)證模型并改進(jìn)仿真

?無源光器件和模塊:濾波器、PLC、AWG、MUX/DEMUX、 分光器、光柵、WSS、ROADMs等


示例:平面光波導(dǎo)的表征


平面光波導(dǎo)作為硅光子平臺(tái)的關(guān) 鍵組成部分,對(duì)測量方法提出了 更高的挑戰(zhàn),包括在單位長度內(nèi) 存在更大的損耗、更高的偏振相 關(guān)性等等。

Luna的掃描激光干涉技術(shù),能夠通過對(duì)器件的掃描,獲得沿器件光路的 亞毫米級(jí)空間分辨率的損耗測量結(jié)果,同時(shí)也可獲得更全面的其他光學(xué)參 數(shù)指標(biāo)。比如對(duì)波導(dǎo)光柵的測量,我們能夠同時(shí)獲得波導(dǎo)光柵在時(shí)域上的 端面及尺度特性,以及在頻域上的頻譜響應(yīng)特性。

使用Luna的分析軟件,您可以區(qū)分并挑選合適的光柵反射區(qū)域,從而可 以輕松觀察到TM模和TE模在頻譜響應(yīng)中表現(xiàn)出的不同偏振效應(yīng)。否則, 整體頻譜響應(yīng)(如下圖中紅色曲線所示)將被很強(qiáng)的端面反射造成的頻譜 響應(yīng)所充滿。


時(shí)域響應(yīng)結(jié)果顯示,強(qiáng)烈的端面反射和波導(dǎo)光柵反射能夠被清晰 的區(qū)分和呈現(xiàn)。


通過時(shí)域響應(yīng)能夠很容易地確定光柵反射峰值,從而可僅對(duì)光柵部 分進(jìn)行頻譜分析(藍(lán)色曲線)。波導(dǎo)的整體頻譜響應(yīng)如紅色曲線所示。


*的硅光子和 PIC 測試解決方案

Luna*的光學(xué)測量系列產(chǎn)品,基于光頻域反射技術(shù)(OFDR),具有業(yè)界領(lǐng)/先的測試動(dòng)態(tài)范圍、時(shí)域和頻譜測試分辨率以及 測試速度。




光矢量分析儀 OVA 5000

• 全面的波導(dǎo)器件表征

• 全面的偏振分析,無需偏振控制器或 準(zhǔn)直保偏光纖

• 單次快速掃描,即可獲得

IL、RL、PDL、CD、PMD、TE/TM狀 態(tài)等參數(shù)的測試結(jié)果

背光反射計(jì) OBR 4600

• 卓/越的硅光子、PIC和光學(xué)器件的光路 分布式損耗測試能力

• 10μm長度分辨率; -140dB探測靈敏度

• 易于測量和分析波導(dǎo)散射和損耗特性

• 亞皮秒分辨率的長度偏差測量

光器件分析儀 Luna 6415

•用于產(chǎn)線測試和質(zhì)量控制的高速分析儀

•單臺(tái)儀器具有反射和透射兩種測量模式

• 高空間分辨率的沿光路長度上的回?fù)p 分布測試

• 透射和反射光路的頻譜響應(yīng)分析



硅光子和PIC測試

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